hafnium tetrachloride | پودر HFCL4 | CAS 13499-05-3 | قیمت کارخانه

توضیحات کوتاه:

Hafnium tetrachloride به عنوان پیشرو اکسید حفنیوم ، کاتالیزور برای سنتز آلی ، کاربردهای هسته ای و رسوب فیلم نازک ، کاربردهای مهمی دارد.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

ارسال ایمیل برای ما

جزئیات محصول

برچسب های محصول

توضیح محصول

معرفی مختصر

نام محصول: Hafnium tetrachloride
CAS شماره: 13499-05-3
فرمول مرکب: HFCL4
وزن مولکولی: 320.3
ظاهر: پودر سفید

مشخصات

قسمت	مشخصات
ظاهر	پودر سفید
HFCL4+ZRCL4	99.9 ٪
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤ 25ppm
U	≤5ppm
Al	60pppm

کاربرد

پیش ساز دی اکسید Hafnium: Hafnium tetrachloride در درجه اول به عنوان پیشرو برای تولید دی اکسید حفنیوم (HFO2) ، ماده ای با خاصیت دی الکتریک عالی استفاده می شود. HFO2 به طور گسترده ای در برنامه های دی الکتریک با K برای ترانزیستورها و خازن ها در صنعت نیمه هادی مورد استفاده قرار می گیرد. HFCL4 به دلیل توانایی در ساخت فیلم های نازک دی اکسید حفنیوم در ساخت دستگاه های الکترونیکی پیشرفته ضروری است.
کاتالیزور سنتز ارگانیک: hafnium tetrachloride می تواند به عنوان کاتالیزور برای واکنشهای مختلف سنتز آلی ، به ویژه پلیمریزاسیون اولفین استفاده شود. خواص اسید لوئیس آن به تشکیل واسطه های فعال کمک می کند و از این طریق باعث بهبود کارآیی واکنشهای شیمیایی می شود. این برنامه در تولید پلیمرها و سایر ترکیبات آلی در صنعت شیمیایی بسیار ارزشمند است.
کاربرد هسته ای: با توجه به مقطع جذب نوترون بالا ، هفنیوم تتراکلرید به طور گسترده در کاربردهای هسته ای ، به ویژه در میله های کنترل راکتورهای هسته ای استفاده می شود. Hafnium به طور موثری می تواند نوترون ها را جذب کند ، بنابراین یک ماده مناسب برای تنظیم فرآیند شکافت است ، که به بهبود ایمنی و کارآیی تولید انرژی هسته ای کمک می کند.
رسوب فیلم نازک: hafnium tetrachloride در فرآیندهای رسوب بخار شیمیایی (CVD) برای تشکیل فیلم های نازک از مواد مبتنی بر حفنیوم استفاده می شود. این فیلم ها در کاربردهای مختلفی از جمله میکروالکترونیک ، اپتیک و پوشش های محافظ ضروری هستند. توانایی سپرده گذاری فیلم های یکنواخت و با کیفیت بالا ، HFCL4 را در فرآیندهای تولید پیشرفته ارزشمند می کند.